Urządzenia do CVI składają się z reaktora lub komory reakcyjnej, w której kontrolowane są parametry chemiczne i temperaturowe w celu osadzania warstw węgla na podłożu. 

CVI to proces, w którym materiał węglowy (najczęściej w postaci struktury porowatej) jest nasycony lub nasączany materiałami węglowymi w fazie gazowej. Proces CVI wykorzystuje gazy węglonośne, takie jak; metan lub acetylen, które reagują w reaktorze, tworząc osady węglowe na powierzchni substratu. 

Technologia CVI ma zastosowanie w produkcji karbonowych tarcz hamulcowych do samochodów wyczynowych, sportowych, elektrycznych i luksusowych. W przypadku produkcji tarcz hamulcowych, proces umożliwia stworzenie struktury o wyjątkowej wytrzymałości i niskiej masie, co jest kluczowe dla efektywnego hamowania. Poprzez precyzyjne zarządzanie tym procesem, tarcze hamulcowe produkowane przy użyciu CVI cechują się doskonałą odpornością na wysokie temperatury, minimalnym zużyciem i doskonałymi właściwościami tarcia, zapewniając bezpieczeństwo i wydajność w zakresie hamowania pojazdów. 

Urządzenia do CVD zawierają komorę reakcyjną, w której kontrolowane są parametry, takie jak; temperatura, ciśnienie i skład chemiczny gazu procesowego. 

CVD to technika wytwarzania powłok na powierzchni substratów poprzez reakcje chemiczne w fazie gazowej.  

Proces osadzania chemicznego (CVD) to technika wykorzystywana np. do produkcji powłok ochronnych (borowanie narzędzi.) Piec CVD umożliwia tworzenie warstw ochronnych na narzędziach, zwiększając ich trwałość, wytrzymałość i efektywność podczas obróbki. W procesie CVD, reakcje chemiczne pozwalają na osadzenie warstw na powierzchni narzędzia, poprawiając jego właściwości. Powłoki te zapewniają lepszą odporność na ścieranie, działanie wysokich temperatur oraz środowisko korozyjne, co przekłada się na wydłużoną żywotność narzędzi i zwiększoną efektywność produkcji przemysłowej.  

Proces puryfikacji grafitów polega na usuwaniu zanieczyszczeń i nieczystości z materiału grafitowego w celu zwiększenia jego czystości i doskonałych właściwości. 

Do puryfikacji grafitów stosuje się różne techniki, termiczna obróbka, procesy chemiczne. 

Proces puryfikacji grafitu przy użyciu gazów procesowych, takich jak fluor i chlor, odbywa się w specjalnie zaprojektowanym piecu, który umożliwia kontrolowane usuwanie zanieczyszczeń z materiału grafitowego. Ten zaawansowany proces wykorzystuje właściwości reaktywne fluoru i chloru, które pozwalają na usunięcie zanieczyszczeń, takich jak związki metali czy inne domieszki, poprzez reakcje chemiczne. Podczas puryfikacji, grafit poddawany jest wysokim temperaturom w obecności tych gazów, co powoduje ich interakcję z zanieczyszczeniami, przekształcając je w łatwo odparowywane lub lotne związki. Proces ten jest kluczowy dla produkcji wysokiej jakości materiałów grafitowych, które znajdują zastosowanie w zaawansowanych technologiach, takich jak produkcja ogniw paliwowych, przemysł elektroniczny czy wytwarzanie materiałów ogniotrwałych. Dzięki piecom wykorzystującym fluor i chlor, możliwe jest uzyskanie czystego grafitu o bardzo wysokich standardach jakościowych, co jest niezwykle istotne w przypadku zastosowań, gdzie czystość materiału ma kluczowe znaczenie. 

/ CVI 

Przemysł motoryzacyjny: W produkcji samochodów wyścigowych i innych pojazdów wysokowydajnych stosuje się często tarcze hamulcowe wykonane z materiałów kompozytowych uzyskanych za pomocą procesu CVI ze względu na ich lekkość i wytrzymałość. 

Przemysł lotniczy i kosmiczny: Produkty CVI są używane w produkcji części samolotów, takich jak elementy konstrukcyjne i ochronne, które muszą być wyjątkowo lekkie, ale jednocześnie wytrzymałe. Produkty CVI są stosowane do produkcji komponentów o bardzo niskiej masie i wytrzymałości, takich jak tarcze hamulcowe, komory spalania i elementy strukturalne w silnikach rakietowych. 

Przemysł energetyczny: Proces CVI jest stosowany do produkcji komponentów wykorzystywanych w przemyśle energetycznym, takich jak; materiały izolacyjne i komponenty reaktorów jądrowych. 

Przemysł obronny: Produkty CVI znajdują zastosowanie w produkcji elementów ochronnych, takich jak; tarcze pancerników czy elementy skafandrów kosmicznych. 

Badania i rozwój: Materiały uzyskane za pomocą procesu CVI są wykorzystywane w laboratoriach do produkcji próbek i elementów do eksperymentów naukowych, zwłaszcza w dziedzinach związanych z wysokimi temperaturami i agresywnymi środowiskami. 

Przemysł chemiczny: Produkty CVI mogą być stosowane w przemyśle chemicznym do produkcji wytrzymałych komponentów, które są odporne na działanie substancji chemicznych i wysokie temperatury. 

/ CVD 

Produkcja materiałów kompozytowych: Technologia CVD jest używana do osadzania ceramiki w materiałach kompozytowych. 

Elektronika: CVD jest wykorzystywane do produkcji cienkich warstw półprzewodnikowych, takich jak krzem, które są stosowane w produkcji mikroprocesorów, tranzystorów i innych elementów elektronicznych. 

Ochrona powierzchni: Warstwy ochronne, takie jak; diamentowe warstwy osadzane za pomocą CVD, są wykorzystywane do zwiększania odporności na ścieranie i korozję różnych materiałów. 

Przemysł chemiczny: CVD jest używane do produkcji katalizatorów i membran o specyficznych właściwościach chemicznych. 

Przemysł lotniczy i kosmiczny: Technologia CVD jest wykorzystywana do produkcji kompozytów węglowych i innych materiałów strukturalnych o wysokiej wytrzymałości i niskiej masie, które znajdują zastosowanie w konstrukcji statków kosmicznych i samolotów. 

Może być stosowane do osadzania warstw grafitowych na metalowych podłożach w celu ochrony przed korozją. Warstwy te mogą być bardzo odporne na działanie agresywnych środowisk chemicznych. 

Produkcja materiałów kompozytowych: Technologia CVD jest używana do osadzania ceramiki w materiałach kompozytowych. 

/ Puryfikacja

Purtyfikacja materiałów grafitowych jest procesem oczyszczania i usunięcia zanieczyszczeń z grafitu lub materiałów grafitowych w celu uzyskania produktów o wysokiej czystości i określonych właściwościach. Zastosowanie puryfikacji materiałów grafitowych obejmuje: 

Elektronika: W przemyśle elektronicznym czysty grafit jest stosowany w produkcji elektrod, elektrod wtryskowych, elektrod w lampach elektronowych i elektrod w bateriach. Oczyszczenie grafitu pozwala na uzyskanie materiałów o wysokim przewodnictwie elektrycznym i termicznym, co jest istotne w wielu zastosowaniach elektronicznych. 

Przemysł chemiczny: Czysty grafit jest używany w produkcji katalizatorów, elektrod elektrolizy, reaktorów chemicznych i komponentów w procesach chemicznych, dlatego ważne jest pozbycie się zanieczyszczeń, które mogłyby zakłócić procesy chemiczne. 

Przemysł metalurgiczny: Grafit jest wykorzystywany w procesach metalurgicznych, takich jak; produkcja stali, w celu uzyskania wysokiej temperatury i redukcji tlenków metali. Czystość grafitu ma istotne znaczenie, aby uniknąć zanieczyszczeń w procesach metalurgicznych. 

Przemysł energetyczny: W elektrociepłowniach i reaktorach jądrowych grafit jest stosowany jako materiał moderatora lub moderatora neutronów. Wysoka czystość grafitu jest kluczowa w tych zastosowaniach. 

Badania naukowe: W badaniach naukowych, szczególnie w dziedzinach związanych z fizyką ciała stałego, chemią i nanotechnologią, czysty grafit jest używany do wytwarzania próbek i urządzeń laboratoryjnych. Oczyszczenie materiałów grafitowych jest niezbędne, aby uzyskać dokładne wyniki eksperymentów. 

Przemysł lotniczy i kosmiczny: Grafit jest używany w produkcji elementów konstrukcyjnych, takich jak; elementy obudów i konstrukcje nośne w statkach kosmicznych i samolotach. Wysoka czystość grafitu pomaga w utrzymaniu wytrzymałości i lekkości tych elementów. 

Puryfikacja materiałów grafitowych jest ważna, ponieważ zanieczyszczenia mogą wpływać na właściwości i wydajność materiału w różnych zastosowaniach. Procesy puryfikacji mogą obejmować różne metody, takie jak procesy chemiczne, obróbka cieplna i mechaniczna, aby uzyskać pożądane właściwości materiału grafitowego.